超微细图形加工技术进展

• 作者: 田如江 韩阶平 马俊如
• 来源期刊: 真空科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 电子束曝光 X射线曝光 纳米加工
• 年，卷（期）: 1998,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 83-94
• 页数: 12页
• 分类号: TB7
• 字数: 9904字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.1998.02.001

摘要

自1959年集成电路发明以来,它已经对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响.集成电路正以线宽每年缩小30%、集成规模增长1倍、芯片价格随之下降的惊人速度发展.光刻技术的发展始终是集成电路发展的决定因素.本文综述了深亚微米光刻和纳米光刻技术.在光学光刻部分,简要描述了光刻的历史演变,较详细综述了光学光刻的最新进展,如相移掩模、离轴照明及深紫外曝光.最后介绍了电子束曝光及X射线曝光的发展状况及STM纳米加工的发展状况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马俊如		6	103	4.0	6.0
2	田如江	中国科学院微电子中心	1	9	1.0	1.0
3	韩阶平	中国科学院微电子中心	1	9	1.0	1.0