集成电路制造中真实缺陷位置的提取方法

• 作者: 姜晓鸿 方敏 王俊平 王正光
• 来源期刊: 西安电子科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: IC缺陷 缺陷位置提取 形态算子
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文和技术报告
• 页码范围: 510-513
• 分类号: TP391.41|TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2400.1999.04.027

摘要

提出一种IC缺陷特征的提取算法,该算法能自动检测出IC缺陷的位置.在预处理阶段,利用形态开运算消除小缺陷和背景噪音,对开后的结果图像进行形态腐蚀,获得冗余物型缺陷的位置特征.实验证明了该算法的正确性.该结果为计算机自动检测IC真实缺陷提供了有效的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方敏	西安电子科技大学计算机学院	34	305	11.0	16.0
2	王俊平	西安电子科技大学应用数学系	31	284	10.0	16.0
3	姜晓鸿	西安电子科技大学应用数学系	6	23	3.0	4.0
4	王正光	西安电子科技大学计算机学院	1	0	0.0	0.0