基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在集成电路制造中,光刻工艺(尤其是工艺引入的缺陷)直接影响生产的成品率.光刻工艺涉及的缺陷形状多种多样,提取缺陷并将之分类对于 提高电路制造成品率是重要的.由于缺陷的骨架是描述缺陷形状及识别缺陷的重要特征,故 提出一种集成电路真实缺陷骨架的提取方法,通过定义LS空间的特征值聚类分割集成电路彩 色图像,使用小波分解分割集成电路灰度图像,然后基于数学形态学方法滤除分割图像的噪 音并提取出缺陷的骨架.实验结果表明该方法使集成电路真实缺陷形状描述简单,从而为缺陷检测与分类提供了准确的依据.
推荐文章
基于LS空间的IC真实缺陷图像的分割
真实缺陷
图像分割
明度
饱和度
LS空间聚类
分段线性判别函数
集成电路制造中真实缺陷位置的提取方法
IC缺陷
缺陷位置提取
形态算子
IC真实缺陷图像的分色
IC真实缺陷图像
分色
HSV彩色模型
质量评价
真实缺陷的矩形模型及其关键面积计算
真实缺陷
缺陷的矩形模型
关键面积模型
成品率
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 IC真实缺陷的骨架提取方法
来源期刊 西安电子科技大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 集成电路缺陷表征 LS空间聚类 数学形态学滤波 骨架提取
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 206-209
页数 4页 分类号 TN405
字数 1911字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2400.2005.02.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郝跃 西安电子科技大学微电子研究所 312 1866 17.0 25.0
2 王俊平 西安电子科技大学微电子研究所 31 284 10.0 16.0
6 荆明娥 西安电子科技大学微电子研究所 10 44 4.0 6.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (8)
共引文献  (75)
参考文献  (7)
节点文献
引证文献  (3)
同被引文献  (7)
二级引证文献  (15)
1983(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1989(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1990(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1992(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1995(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1997(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1998(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1999(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2001(4)
  • 参考文献(4)
  • 二级参考文献(0)
2005(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2005(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2006(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2011(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
2012(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2013(4)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(3)
2015(4)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(4)
2016(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2017(3)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(3)
2020(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
集成电路缺陷表征
LS空间聚类
数学形态学滤波
骨架提取
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安电子科技大学学报(自然科学版)
双月刊
1001-2400
61-1076/TN
西安市太白南路2号349信箱
chi
出版文献量(篇)
4652
总下载数(次)
5
总被引数(次)
38780
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导