超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展

• 作者: 于新好 张树永 曹宝成 郭永榔
• 来源期刊: 化学进展
• 学科: 化学
• 关键词: 集成电路 硅片 溶液清洗
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 综述与评论
• 页码范围: 103-107
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 270字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-281X.2000.01.009

摘要

本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状,并对技术的未来发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张树永	山东大学化学学院	63	722	15.0	25.0
2	曹宝成	山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心	6	74	5.0	6.0
3	于新好	山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心	5	56	4.0	5.0
4	郭永榔	山东大学化学学院	11	45	5.0	6.0