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高靶材利用率的新型磁控溅射器
高靶材利用率的新型磁控溅射器
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摘要：
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聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究
聚焦重离子束溅射
同位素靶
均匀性
材料利用率
靶材密度对射频磁控溅射法制备ITO薄膜性能的影响
氧化锡铟(ITO)
靶材密度
薄膜
射频磁控溅射
平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析
磁控溅射
有限元
横向分量
磁通量密度
一种新型磁控溅射贵金属靶材设计
磁控溅射阴极
贵金属靶材
靶材绑定
橡胶粘合
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真空科学与技术学报
主办单位：
中国真空学会
出版周期：
月刊
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号：
创刊时间：
1981
语种：
chi
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
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19905
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