离子注入对CuxS薄膜特性的影响

• 作者: 屈晓声 田宏
• 来源期刊: 大连铁道学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: CuxS薄膜 离子注入 相变
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 页码范围: 73-75
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1544字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9590.2000.04.017

摘要

讨论了薄膜经氮离子注入后对薄膜的特性影响，铜硫化合物薄膜是经两次蒸发制备在玻璃上．实验发现氮离子束注入引起了薄膜中的铜与硫成分的改变，很明显的观察到样品中的铜对硫的比值随注入离子束强度的增加而变大．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田宏		3	1	1.0	1.0
2	屈晓声	华大学电子工程系	1	0	0.0	0.0