内表面等离子体浸没离子注入过程的数值模拟

• 作者: 刘爱国 曾照明 朱剑豪 汤宝寅 王小峰 王松雁 田修波
• 来源期刊: 哈尔滨工业大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 等离子体浸没离子注入 内表面改性 等离子体鞘层 数值模拟
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 111-115
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 4395字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0367-6234.2000.01.030

摘要

采用流体模型对圆筒内表面PIII过程进行了二维数值模拟,研究了筒内鞘层扩展和交叉重叠对内表面注入的注入能量和注入剂量的影响.通过模拟发现,内表面注入过程存在注入能量和注入剂量偏低的问题,但前者并不十分严重,而后者则比较严重.在鞘层发生交叉重叠后筒内出现的高能离子流对注入能量和注入剂量偏低的问题有改善作用.