掺铒硅多孔化后的光致发光特性

• 作者: 徐少辉 熊祖洪 陈刚 顾岚岚
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 研究快讯
• 页码范围: 383-387
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 4399字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.02.040

摘要

采用一种新的方法制备掺Er多孔硅.首先通过分子束外延法生长Er,O共掺的硅外延层,然后通过常规的电化学阳极腐蚀法将外延层制备成掺Er离子的纳米硅柱结构.由于实现了Er离子在多孔硅中沿深度方向的均匀分布,得到峰宽仅6nm的 Er3+本征发光.同时,由于铒与氧共掺于硅柱内部,多孔硅不再需要通过高温后处理引入氧来实现铒的光学激活.实验还对多孔化前后,Er3+的发光强度作出直观的比较,讨论多孔硅可见光及红外光区域的发光对Er3+红外发射的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈刚	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	258	1907	19.0	33.0
2	熊祖洪	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	5	63	4.0	5.0
3	顾岚岚	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	8	42	4.0	6.0
4	徐少辉	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	69	4.0	4.0