真空弧沉积类金刚石膜探讨

• 作者: 王珉 袁安富
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 真空电弧沉积 PVD 类金刚石膜
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 31-35
• 页数: 7页
• 分类号: TF132:O462.21+O484
• 字数: 3584字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2001.01.009

摘要

根据等离子沉积的原理，将原真空热处理炉改造成低压真空等离子沉积装置，采用过滤式阴极电弧沉积法分别在单晶硅和高速钢这两种基体上沉积出类金刚石膜。对所沉积的膜进行了机械性能和防腐蚀性能的试验。结果表明：①这一装置的改造取得了初步成功，为今后进一步改进和优化打下了基础；②运用该装置在单晶硅基体上所沉积的类金刚石膜要比在高速钢基体上所沉积的类金刚石膜性能好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王珉	南京航空航天大学机电工程学院	205	2631	27.0	40.0
2	袁安富	南京工程学院自动化系	3	10	2.0	3.0