铝电解电容器用阳极箔扩面腐蚀机理的研究

• 作者: 冯哲圣 徐永兴 杨邦朝
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 铝箔 电化学腐蚀 机理
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TM535
• 字数: 3802字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2001.06.005

摘要

研究了高纯电子铝箔在HCl溶液中的电蚀行为,提出了Cl-对铝的氧空位输运侵蚀机理,指出Cl-在侵蚀膜表面吸附,以及在膜内部传输的机制,并利用该机理模型很好地解释了高纯电子铝箔在HCl溶液中的电蚀行为.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨邦朝	电子科技大学信息材料工程学院	253	3422	31.0	49.0
2	冯哲圣	电子科技大学信息材料工程学院	44	541	13.0	22.0
3	徐永兴		2	25	2.0	2.0