化学沉积Ni-Cu-P合金镀层生长过程的原子力显微镜观察

• 作者: 于会生 王永瑞 罗守福
• 来源期刊: 电子显微学报
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 298-299
• 页数: 2页
• 分类号: TG14
• 字数: 818字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6281.2001.04.013

摘要

用原子力显微镜(AFM),对化学沉积Ni-Cu-P合金薄膜的表面形貌进行了观察,对多元化学沉积的机理进行了初步的研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗守福	上海交通大学材料科学与工程学院	11	127	7.0	11.0
2	王永瑞	上海交通大学材料科学与工程学院	12	105	6.0	10.0
3	于会生	上海交通大学材料科学与工程学院	8	65	4.0	8.0