表面光滑的金刚石薄膜的合成

• 作者: 尚勇 董丽芳 董国义 赵庆勋
• 来源期刊: 河北大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: EACVD 表面光滑 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 234-236
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1919字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2002.03.006

摘要

以[CH4+H2]为反应气体,利用EACVD的方法在Si(100)衬底合成了表面光滑的超薄金刚石薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、显微喇曼光谱、X射线衍射等手段对合成的金刚石薄膜的成分与结构进行了分析.实验得到了生长表面光滑、厚度均匀的超薄金刚石薄膜的最佳条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵庆勋	河北大学物理科学与技术学院	54	254	10.0	13.0
2	董丽芳	河北大学物理科学与技术学院	183	836	17.0	22.0
3	董国义	河北大学物理科学与技术学院	58	363	11.0	16.0
4	尚勇	河北大学物理科学与技术学院	16	40	4.0	6.0