同步辐射x射线光刻制作深亚微米T形栅

• 作者: 叶甜春 李兵 谢常青 陈大鹏
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: T形栅 x射线掩模 x射线光刻 同步辐射
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2237字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.06.009

摘要

x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求.本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行介绍,然后论述了一种用于制造深亚微米T形栅的两层胶工艺,介绍了所取得的一些研究结果,最后对国内的深亚微米光刻现状进行了简要分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李兵	中国科学院微电子中心	79	708	16.0	24.0
2	叶甜春	中国科学院微电子中心	200	911	14.0	18.0
3	陈大鹏	中国科学院微电子中心	79	466	10.0	17.0
4	谢常青	中国科学院微电子中心	50	258	9.0	12.0