管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算

• 作者: 孙超 汪爱英 纪爱玲 邹友生 闻立时 黄荣芳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 热丝化学气相沉积 金刚石膜 温度场 模拟计算
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 页码范围: 576-582
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 5336字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2002.06.014

摘要

在热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算.结果表明,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后,管道壁温度分布的均匀性大大提高;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
2	汪爱英	中国科学院金属研究所	33	206	9.0	13.0
3	黄荣芳	中国科学院金属研究所	37	704	16.0	25.0
4	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
5	纪爱玲	中国科学院金属研究所	7	86	5.0	7.0
6	邹友生	中国科学院金属研究所	5	46	4.0	5.0