纳米印刷光刻技术

• 作者: 姚汉民 李展 石建平 陈旭南 陈献忠
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米印刷光刻 纳米结构制作 批量生产 高效率 低成本
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2651字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.12.006

摘要

介绍了纳米结构制作的一种新方法--纳米印刷光刻的基本原理、总体方案.该技术与其它微刻印技术相比,具有成本低、生产效率高、可批量生产、工艺过程简单等优点.介绍了SiC模板的制作方法、用纳米印刷光刻技术制作纳米结构的加工步骤及刻印结果.结果表明该技术可制作特征尺寸小于100 nm的图形.本文还展望了其应用于微电子学等领域的前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈献忠	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	17	75	4.0	8.0
2	姚汉民	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	44	355	9.0	16.0
3	陈旭南	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
4	李展	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	21	187	8.0	13.0
5	石建平	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	19	73	5.0	8.0