无屏蔽罩的矩形平面磁控溅射靶的设计

• 作者: 常天海
• 来源期刊: 华南理工大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 屏蔽罩 磁感应强度 设计
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TG113|TN305|TB43
• 字数: 2301字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-565X.2003.01.010

摘要

通过理论分析、实际设计和实验,对矩形平面磁控溅射靶表面水平磁感应强度B的传统取值上限进行了拓展.结果表明:若阴极靶体下表面和4个侧面的的磁感应强度被屏蔽低于0.000 5 T,同时上表面覆盖同一靶材,则可抛弃屏蔽罩,采用裸靶结构,靶表面的水平磁感应强度B就可以远高于0.05 T,达到0.09 T;此外,B的增加显著降低了磁控溅射镀膜工艺的着火电压和维持放电电压,为实现低电压磁控溅射提供了另外一种思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常天海	华南理工大学电子与信息工程学院	67	317	10.0	14.0