磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究

• 作者: 张建民 梁昌慧 王立
• 来源期刊: 陕西师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 靶源 设计制作
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 36-38
• 页数: 3页
• 分类号: O4
• 字数: 1195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1672-4291.1999.01.010

摘要

设计制作了方便实用的圆形直流平面磁控溅射靶源;用CT-5型高斯计测量铝靶面上的磁场分布,给出靶电压和靶电流随溅射氩气压(3.0×10-1～9.0×10-1Pa)的变化曲线和3种不同气压(1.0,0.6,0.2 Pa)下的伏安特性曲线;在玻璃基体上制备了高纯铝、铜和钛膜.结果表明,该靶源可得到最佳磁场分布,且结构简单、更换靶材方便、溅射电压和气压低、成膜速度快、基体温升低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王立	咸阳师范专科学校物理学系	32	107	4.0	10.0
2	张建民	陕西师范大学物理学系	91	480	12.0	19.0
3	梁昌慧	咸阳师范专科学校物理学系	24	85	4.0	9.0