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摘要:
电子回旋共振微波等离子体技术在薄膜制备技术、材料的表面处理、离子源和等离子体刻蚀等方面得到了广泛的应用,取得了长足的进展。这些特点在ICF实验制靶过程中有重要应用,如调制靶等,而且加工精度高,能满足ICF制靶的要求。基于在未来的ICF实验中对各种有机膜制备、各种调制靶的制备需求,开展了电子回旋共振微波等离子体技术在薄膜制备和等离子体刻蚀方面的预研工作。
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文献信息
篇名 电子回旋共振微波等离子体离子束刻蚀技术
来源期刊 中国工程物理研究院科技年报 学科 物理学
关键词 电子回旋共振 微波等离子体 离子束刻蚀 制备调制
年,卷(期) 2003,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 86-87
页数 2页 分类号 O539
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研究主题发展历程
节点文献
电子回旋共振
微波等离子体
离子束刻蚀
制备调制
研究起点
研究来源
研究分支
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相关学者/机构
期刊影响力
中国工程物理研究院科技年报
年刊
四川省绵阳市919信箱805分箱
出版文献量(篇)
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