氧杂质及热处理过程对Ge-Sb-Te薄膜的光学性质和晶体结构的影响

• 作者: 侯立松 刘波 陈静 顾四朋
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 Ge-Sb-Te薄膜 氧杂质 光学常数 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1111-1115
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 2736字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2003.12.014

摘要

研究了氧掺杂Ge-Sb-Te磁控溅射相变薄膜在400～800 nm区域的光学常数(n,k),发现不同氧成分薄膜的光学性质有较大差别,经过热处理后薄膜的光学性质也发生了较大变化.由热处理前后薄膜的X射线衍射(XRD)发现,经过退火处理后薄膜发生了从非晶态到晶态的相变.由薄膜内应力变化和薄膜的结构变化解释了薄膜光学性质的变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘波	中国科学院上海光学精密机械研究所	266	2712	24.0	39.0
2	陈静	中国科学院上海技术物理所红外物理国家实验室	195	2091	24.0	37.0
3	侯立松	中国科学院上海光学精密机械研究所	43	407	13.0	18.0
4	顾四朋	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	57	4.0	7.0