热处理对Al掺杂ZnO薄膜晶体结构及光电性能的影响

• 作者: 刘金铭 常晓 张安 曹萌萌 王丹红 赵亮 赵小如 邵继峰
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溶胶-凝胶法 Al掺杂ZnO(ZAO) 热处理 晶体结构 光电性能
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 1130-1135
• 分类号: O484.4
• 字数: 4753字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶凝-胶法在普通玻璃衬底上制备了具有c轴择优取向的Al掺杂ZnO透明导电薄膜.实验中将热处理过程分解为预烧、空气退火和真空退火三个部分,研究了各个步骤对于ZAO薄膜晶体结构和光电性能的影响.结果表明, 500 ℃预烧550 ℃空气退火的薄膜,经过550 ℃,1×10-2 Pa真空退火后,其晶体结构和光电性能达到最佳,电阻率最低达到1.77×10-3 Ω· cm,可见光范围内的平均透过率约为85%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张安	西北工业大学理学院应用物理系	251	2073	20.0	31.0
2	赵亮	西北工业大学理学院应用物理系	10	80	4.0	8.0
3	王丹红	西北工业大学理学院应用物理系	2	8	1.0	2.0
4	赵小如	西北工业大学理学院应用物理系	8	67	5.0	8.0
5	刘金铭	西北工业大学理学院应用物理系	2	8	1.0	2.0
6	邵继峰	西北工业大学理学院应用物理系	1	8	1.0	1.0
7	曹萌萌	西北工业大学理学院应用物理系	1	8	1.0	1.0
8	常晓	西北工业大学理学院应用物理系	1	8	1.0	1.0