集成电路迈向90nm新工艺

• 作者: 冉峰 朱良辰 胡越黎
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 90 nm 应变硅 铜工艺
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 42-44
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 2086字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2003.10.010

摘要

介绍集成电路制造技术90 nm最新工艺的一些动态及采用的新技术,如应变硅、50 nm晶体管栅极长度,并对今后集成电路的发展做了简单展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱良辰	上海大学微电子研发中心	3	16	2.0	3.0
2	胡越黎	上海大学微电子研发中心	70	436	11.0	16.0
3	冉峰	上海大学微电子研发中心	107	529	10.0	18.0