脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析

• 作者: 刘赤子 张谷令 杨思泽 杨武保 王久丽 范松华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: PHEDP法 类金刚石膜 拉曼光谱 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 流体、等离子体和放电
• 页码范围: 140-144
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3790字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.01.026

摘要

利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜.工艺研究表明:放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用.利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能量损失谱分析薄膜的形态结构表明:薄膜具有典型的类金刚石特征;纳米类金刚石膜的晶粒尺寸小于20nm甚至为非晶态;类金刚石膜中含有一定量的氮原子,随着沉积能量的升高,氮的含量增大.纳米类金刚石膜的薄膜电阻超过109Ω/cm2.对放电溅射过程进行了理论分析,结果与工艺研究的结论吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨武保	中国科学院物理研究所	3	45	3.0	3.0
2	范松华	中国科学院物理研究所	7	84	5.0	7.0
3	刘赤子	中国科学院物理研究所	12	170	8.0	12.0
4	张谷令	中国科学院物理研究所	12	156	7.0	12.0
5	王久丽	中国科学院物理研究所	6	85	5.0	6.0
6	杨思泽	中国科学院物理研究所	34	349	11.0	17.0