磁控溅射矩形靶磁场的优化设计

• 作者: 石中兵 童洪辉 赵嘉学
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体 磁控溅射 矩形靶 优化设计 刻蚀
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 知识与进展
• 页码范围: 112-116
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.92|O532+.11
• 字数: 2812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2004.02.011

摘要

磁控溅射靶材的利用率在降低生产成本中起着重要作用.正交的靶电磁场能显著地延长电子的运动路程,增加同工作气体分子的碰撞几率,提高等离子体密度,使磁控溅射速率数量级的提高,因此靶面正交电磁场的分布将决定靶的烧蚀情况.提出了2种改善矩形平面靶磁场分布的方法,经过分析,这2种设计将拓宽靶面的刻蚀范围,提高靶材的利用率.