X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究

• 作者: 刘业异 叶甜春 王德强 胡松 谢常青
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光刻 对准系统 拉普拉斯算子 识别精度 对准精度
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 17-22
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2225字
• 语种: 中文

摘要

针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两个方面比较好,而改进后的SOBEL II算子的对准时间最短,对准精度也很高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	叶甜春	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	200	911	14.0	18.0
3	王德强	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	28	248	10.0	14.0
4	刘业异	中国科学院光电技术研究所	13	173	7.0	13.0
5	谢常青	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室	50	258	9.0	12.0