激光晶化多晶硅的制备与XRD谱

• 作者: 付国柱 廖燕平 缪国庆 荆海 邵喜斌 郜峰利 黄金英
• 来源期刊: 吉林大学学报(理学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 氢化非晶硅 脱氢 激光晶化 多晶硅 X射线衍射 半宽度
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 99-102
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|O471.4
• 字数: 3020字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-5489.2004.01.021

摘要

对氢化非晶硅(a-Si∶H)进行了脱氢和不同能量密度的准分子激光晶化多晶硅的实验, 对所得样品用X射线衍射表征. 针对多晶硅(111)面特征峰的强度、晶面间距和宽化信息, 分析了激光功率密度对晶化多晶硅结晶度和应力的影响, 根据谢乐公式(Scherrer)估算了晶粒的大小, 得到用准分子激光晶化多晶硅的较佳工艺参数, 并且验证了激光辐射对薄膜材料作用的3种情况.