CHBr薄膜制备的初步研究

• 作者: 冯建鸿 吴卫东 黄勇
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜制备 等离子体化学气相沉积 离子束辅助沉积 ICF实验 掺杂材料 CH薄膜 工艺路线 PCVD法
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 71-72
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1

摘要

碳氢（cH）及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多，诸如：离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积（LPPCVD）等。近年来，详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺，形成了比较成熟的技术路线与工艺路线，并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。