CHN薄膜的制备

• 作者: 吴卫东 唐永建 李常明 陈志梅
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 空心阴极等离子体化学气相沉积 CHN 薄膜 XPS
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 176-178
• 页数: 3页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.02.017

摘要

文章简要描述了空心阴极等离子体化学气相沉积(HPCVD)的原理,以及用HPCVD方法制备CHN薄膜的工艺和实验结果.用XPS和AFM分别分析了CHN薄膜中C和N的成分及表面形貌,并得到了一定条件下的薄膜沉积速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
3	李常明	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	3	8	2.0	2.0
4	陈志梅	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	11	23	3.0	3.0