CHN薄膜的制备方法与工艺研究

• 作者: 倪静 吴卫东 唐永建 杨向东 陈志梅
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: CHN薄膜 空心阴极 化学气相沉积 沉积速率 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1689-1692
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 2186字
• 语种: 中文

摘要

采用空心阴极等离子化学气相沉积方法,以NH3/H2的混合气体及CH4气体为原料反应气体,成功地制备了非晶的CHN薄膜,研究了CHN薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系.同时用X射线光电子能谱(XPS)确定了不同条件下薄膜中N原子的百分比,用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面粗糙度及表面形貌进行了测量和表征.结果表明:薄膜中N原子的百分比最大为12%,薄膜的表面结构光滑、致密,表面粗糙度小于1 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
3	杨向东	四川大学原子分子物理研究所	278	1103	14.0	21.0
4	陈志梅	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	11	23	3.0	3.0
5	倪静	四川大学原子分子物理研究所	2	3	1.0	1.0