Cr过渡层沉积粘附型CVD金刚石膜的机理研究

• 作者: 卢文壮 左敦稳 徐锋 王珉 黎向锋
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石膜 硬质合金 电沉积Cr 过渡层 结合强度
• 年，卷（期）: 2004,（18）
• 所属期刊栏目: 材料工程
• 页码范围: 1676-1680
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2004.18.023

摘要

研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜.利用SEM分析了电沉积层的形貌,利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面,利用SEM和Raman分析了金刚石膜的表面形貌、成分,利用XRD分析了过渡层和CVD金刚石膜的结合面,利用压痕法研究了金刚石薄膜与基体的结合力.结果表明,H等离子处理使得硬质合金与Cr镀层成为冶金结合,提高了电沉积层的结合强度;在Cr过渡层与金刚石膜之间形成的Cr3C2和Cr7C3等碳化物有利于金刚石的成核和膜基结合强度的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电工程学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电工程学院	510	3780	26.0	32.0
3	徐锋	南京航空航天大学机电工程学院	85	541	13.0	18.0
4	王珉	南京航空航天大学机电工程学院	205	2631	27.0	40.0
5	黎向锋	南京航空航天大学机电工程学院	109	810	15.0	20.0