溅射过程中粒子能量对钛薄膜表面形貌影响

• 作者: 张东平 易葵 范正修 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 钛薄膜 离子束溅射 表面形貌
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 1450-1454
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3987字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2004.11.003

摘要

借助于原子力显微镜研究了离子束溅射沉积工艺中入射离子能量对制备的Ti薄膜表面形貌的影响.对薄膜表面高度数据进行相关运算,发现在此工艺条件下制备的薄膜具有典型的分形特征,利用分形表面高度-高度相关函数的唯象表达形式对不同能量下制备Ti薄膜表面的高度相关函数进行拟合,得到了薄膜表面的分形维数、水平相关长度、标准偏差粗糙度等参量.研究发现,入射Ar离子能量在300～700eV之间薄膜表面的粗糙度随着沉积粒子的能量增加而增大,分形维数随着入射离子能量的增加而减少.另外,在得到的分形维数基础上对不同溅射电压下Ti薄膜的生长机制进行了初步研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	张东平	中国科学院上海光学精密机械研究所	8	84	5.0	8.0
5	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	299	11.0	16.0