氧在溅射和退火过程中对ZnO薄膜的影响研究

• 作者: 张韬 徐新 徐芸芸 李争鸣 陈晰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 XRD 氧气 退火
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 23-25
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444|TB383
• 字数: 3356字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2009.04.009

摘要

利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了高度C轴择优取向的纳米ZnO薄膜,采用扫描电子显微镜、电子能谱仪和X射线衍射分析仪研究了溅射过程中和热处理过程中氧气对ZnO薄膜形貌、成分以及结构的影响规律.结果表明:在溅射过程中和退火过程中通入适量的氧气,ZnO薄膜(002)衍射面的晶面间距变小,薄膜中的氧含量提高,薄膜中的缺陷减少.在空气气氛中退火2h的薄膜,质量几乎接近了在溅射过程中通入氧气所制得的样品.因此在溅射制备ZnO薄膜时,可以减少氧气用量甚至无需通入氧气,而在热处理过程中实现增氧,从而降低了制备成本,简化了薄膜的制备工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐新		20	55	4.0	6.0
2	陈晰		3	3	1.0	1.0
3	李争鸣		10	49	2.0	7.0
4	张韬		23	62	3.0	6.0
5	徐芸芸		17	33	3.0	4.0