液相沉积法制备类金刚石膜的研究

• 作者: 孙敏 沈风雷 王红卫 闻荻江
• 来源期刊: 材料开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 液相沉积 钛合金 类金刚石
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 1854字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1545.2005.05.006

摘要

探讨了用液相法在钛合金表面沉积制备类金刚石膜的可能性,研究了沉积膜工艺条件对膜的影响,得出了适宜的沉积条件.结果表明,通过液相法可以沉积制备得到DLC膜,但与沉积条件有着密切的关系.当电压为1600～1850V、温度为60～62℃、电极间距为8～10mm、沉积时间大于36h时,才能在钛合金表面得到完整的DLC绝缘膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻荻江	苏州大学材料工程学院	113	1183	19.0	29.0
2	王红卫	苏州大学材料工程学院	51	399	11.0	15.0
3	孙敏		23	86	5.0	7.0
4	沈风雷	苏州大学材料工程学院	15	82	5.0	8.0