CVD金刚石厚膜电加工表面粗糙度分析

• 作者: 卢文壮 左敦稳 曹振中 黎向锋
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石厚膜 电加工 表面粗糙度 掺硼
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 开发与应用
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2970字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2005.01.004

摘要

由于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)金刚石厚膜的加工极其困难,本文提出了一种金刚石厚膜精加工的新工艺,即通过掺杂使金刚石膜导电,利用电火花对掺杂金刚石膜进行加工.掺杂后金刚石厚膜电阻率范围达到0.00243～0.0634W×cm,研究了电参数对金刚石厚膜电火花加工表面粗糙度和材料去除速率的影响,结果表明二者都随着峰值电流和脉冲宽度的增大而增大.通过回归计算得出了电火花加工表面粗糙度的经验公式,二元回归分析的相关系数达0.96,证实了经验公式的有效性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
3	黎向锋	南京航空航天大学机电学院	109	810	15.0	20.0
4	曹振中	南京航空航天大学机电学院	5	26	3.0	5.0