电光调制技术在光刻对准中的应用

• 作者: 周金梅 曹益平 梁友生 邢廷文
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 对准 对准精度 电光调制技术 杂散光抑制
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 22-25,42
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1586字
• 语种: 中文

摘要

介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理,详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理,并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响.结果表明,使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹益平	四川大学光电科学技术系	136	874	15.0	24.0
2	邢廷文	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	67	501	11.0	17.0
3	周金梅	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	9	75	4.0	8.0
4	梁友生	四川大学光电科学技术系	6	63	4.0	6.0