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摘要:
总结了硅纳米线在电学特性方面的研究进展,重点分析了本征及掺杂硅纳米线的载流子浓度与迁移率、场发射及电子输运特性.研究表明通过对硅纳米线进行掺杂可提高载流子浓度及迁移率、场发射和电子输运性能,随硅纳米线直径的减小其电学性能增强.因此,硅纳米线在场效应晶体管及存储元件等纳米器件方面具有极大的应用前景.
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文献信息
篇名 硅纳米线的电学特性
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 硅纳米线 电学特性 场发射 电子输运
年,卷(期) 2005,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 949-953
页数 5页 分类号 TN305.3|TN304.1
字数 5356字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2005.04.066
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张勇 湖南大学材料科学与工程学院 64 923 15.0 29.0
2 唐元洪 湖南大学材料科学与工程学院 67 498 13.0 19.0
3 裴立宅 湖南大学材料科学与工程学院 37 510 14.0 21.0
4 郭池 湖南大学材料科学与工程学院 20 250 9.0 15.0
5 陈扬文 湖南大学材料科学与工程学院 16 217 9.0 14.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
硅纳米线
电学特性
场发射
电子输运
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
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