圆柱形衬底上高质量金刚石薄膜制备工艺研究

• 作者: 孙方宏 王勇 陈明 马玉平
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 偏压增强热丝CVD法 圆柱形衬底 高质量
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 2725字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2005.03.007

摘要

本文以丙酮和氢气为气源,采用优化钽丝排列分布的偏压增强热丝CVD装置对钨丝衬底进行了金刚石薄膜沉积研究.采用扫描电镜(SEM)、拉曼(Raman)光谱等方法检测了金刚石薄膜的质量,分析了沉积工艺对金刚石形核和生长的影响.研究结果分析表明,当直径为1mm的钨丝与热丝之间的最佳距离为4-6mm且反应压力为4665.5Pa、碳源浓度为1.8%时可得到涂层厚度均匀又能覆盖整个钨丝外表面的高质量金刚石薄膜,为以后的自支撑的金刚石薄膜管的制备和回转体刀具的外表面金刚石涂层打下基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙方宏	上海交通大学机械与动力工程学院	91	969	17.0	25.0
2	陈明	上海交通大学机械与动力工程学院	192	1907	22.0	35.0
3	王勇	上海交通大学机械与动力工程学院	137	795	16.0	22.0
4	马玉平	上海交通大学机械与动力工程学院	13	101	7.0	9.0