高速微晶硅材料的制备及其特性分析

• 作者: 孙建 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 赵颖 高艳涛 魏长春
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微晶硅薄膜 拉曼光谱 光发射谱
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 275-277,282
• 页数: 4页
• 分类号: TK514
• 字数: 1888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.04.010

摘要

本文采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备出了系列不同功率的微晶硅薄膜.对薄膜的电学特性和结构特性进行了测试分析,结果表明:制备出了光敏性在500～700、激活能在0.5 eV左右、沉积速率大于0.8 nm/s和晶化率在60%左右的微晶硅材料.同时也对材料的稳定性进行了相关的研究.