VHF-PECVD制备微晶硅材料的均匀性及其结构特性的分析

• 作者: 孙建 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 赵颖 高艳涛 魏长春
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 微晶硅薄膜 薄膜均匀性 晶化率
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 99-102
• 页数: 4页
• 分类号: TN104.3|O484.4
• 字数: 1522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2005.02.003

摘要

采用VHF-PECVD技术在多功能系统(cluster tool)中制备了系列硅薄膜,研究薄膜的均匀性及电学特性和结构特性.结果表明:气压和功率的合理匹配对薄膜的均匀性有很大的影响;材料的喇曼测试和电学测试结果表明微晶硅薄膜存在着纵向的结构不均匀,在将材料应用于器件上时,必须要考虑优化合适的工艺条件;硅烷浓度大,相应制备薄膜的晶化程度减弱,即薄膜中非晶成分增多.