纯化器对VHF-PECVD制备的不同结构硅薄膜特性的影响

• 作者: 任慧志 侯国付 孙建 张德坤 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 薛俊明 赵颖 高艳涛 魏长春
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 甚高频等离子体增强化学气相沉积 纯化器 硅薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 892-897
• 页数: 6页
• 分类号: TK51
• 字数: 2408字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.004

摘要

本文采用VHF-PECVD技术制备了不同结构的硅薄膜,分析研究了有、无纯化器对制备薄膜特性的影响.电学特性和结构特性测试结果表明:在10W的功率条件下,使用纯化器时制备的薄膜是光敏性满足非晶硅电池要求的材料,而在不使用纯化器时制备的材料是适用于太阳能电池有源层的纳米硅材料;在30W时,不使用纯化器制备薄膜的晶化明显增大,光敏性也相应的降低,50W的条件表现出相类似的结果,初步分析是氧引起的差别;激活能的测试结果也表明,使用纯化器会降低材料中的氧含量,即表现激活能相对大;另外,沉积速率的测试结果也给出:耗尽区所在位置与是否使用纯化器有很大关系.