ITO玻璃光刻工艺的研究

• 作者: 张方辉 张麦丽 牟强 王秀峰
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: ITO 光刻 曝光时间 显影时间 刻蚀时间
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TN27|TN305.7
• 字数: 1678字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2005.01.004

摘要

将光刻胶涂敷在带有ITO薄膜的玻璃表面上,利用紫外光对其进行光刻,通过金相显微镜观察刻蚀后的ITO表面形貌,定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响,得到最佳清洗工艺为:洗涤剂棉球擦洗,然后分别用丙酮、蒸馏水超声清洗两次,烘干;对于正性光刻胶RZJ-390PG,最佳实验效果的曝光时间为5 min;最佳显影时间为2 min;最佳刻蚀时间为6 min,为OLED得到精细阳极奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秀峰	陕西科技大学材料科学与工程学院	276	1311	17.0	22.0
2	张方辉	陕西科技大学电气与电子工程学院	150	773	13.0	20.0
3	张麦丽	陕西科技大学材料科学与工程学院	33	137	7.0	10.0
4	牟强	陕西科技大学电气与电子工程学院	34	294	9.0	16.0