CVD金刚石薄膜的掺硼研究

• 作者: 常明 朱亚东 潘鹏
• 来源期刊: 天津理工大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石薄膜 硼掺杂 热灯丝CVD
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: O472
• 字数: 1940字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-095X.2005.01.012

摘要

主要介绍硼掺杂金刚石膜的生长.采用热灯丝CVD法在硅上制备金刚石薄膜,采用三氧化二硼制备硼掺杂金刚石膜.利用拉曼光谱分析硼掺杂金刚石膜的生长情况.结果表明:硼的掺杂质量分数随生长时间延长而增大;利用SEM观察硼掺杂金刚石膜的表面晶粒变小;利用银浆在掺杂金刚石膜表面制备电极,测试电流随温度升高而变大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常明	天津理工大学光电信息与电子工程系	27	173	8.0	11.0
2	潘鹏	天津理工大学光电信息与电子工程系	18	63	5.0	7.0
3	朱亚东	天津理工大学光电信息与电子工程系	6	35	4.0	5.0