退火处理对SnO2:Sb薄膜结构和光致发光性质的影响

• 作者: 余旭浒 王玉恒 计峰 马洪磊 马瑾
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射法 SnO2:Sb薄膜 光致发光
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 1747-1750
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.21
• 字数: 3359字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.11.016

摘要

用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出SnO2:Sb薄膜,研究了不同掺杂和退火对薄膜结构的影响.制备薄膜是具有纯氧化锡四方金红石结构的多晶膜薄,晶粒生长的择优取向为(110).室温下光致发光测量首次观测到392 nm附近存在紫外-紫光发射,并对SnO2:Sb的光致发光机制进行了探索性研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马瑾	山东大学光电材料与器件研究所	44	495	13.0	20.0
2	计峰	山东大学光电材料与器件研究所	23	185	7.0	13.0
3	马洪磊	山东大学光电材料与器件研究所	58	681	15.0	23.0
4	余旭浒	山东大学光电材料与器件研究所	11	144	6.0	11.0
5	王玉恒	山东大学光电材料与器件研究所	10	142	6.0	10.0