激光辅助制备多孔硅锗的形貌和PL光谱研究

• 作者: 刘世荣 吴克跃 许丽 黄伟其
• 来源期刊: 贵州大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光辐照 多孔硅锗 PL光谱 量子受限和界面态综合模型
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 346-348
• 页数: 3页
• 分类号: O471.1
• 字数: 947字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5269.2006.04.005

摘要

用改进的双槽法和激光辅助照射制备多孔硅锗,用电子扫描探针观察其形貌.同时测样品的PL光谱,峰位在725nm左右,且不随制备条件的变化而变化.强度比一般多孔硅的强度强10倍左右.提出了量子受限和界面态效应综合模型来解释其发光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄伟其	贵州大学理学院	40	77	5.0	6.0
2	许丽	贵州大学理学院	11	49	5.0	6.0
3	吴克跃	贵州大学理学院	6	19	2.0	4.0