液相沉积类金刚石膜的沉积机理研究

• 作者: 孙敏 沈风雷 王红卫 闻荻江
• 来源期刊: 化学工业与工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石膜 电化学 亲电取代
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TQ127.1
• 字数: 4254字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7906.2006.02.003

摘要

根据电化学的相关理论,提出了钛合金表面液相沉积DLC膜的反应机理,给出了可能电极过程,认为膜是通过甲基阳离子的亲电取代反应而不断生长.讨论了氢原子对金刚石结构的稳定作用,并解释了实验条件对膜结构和性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻荻江	苏州大学材料工程学院	113	1183	19.0	29.0
2	王红卫	苏州大学材料工程学院	51	399	11.0	15.0
3	孙敏	苏州科技学院土木系	23	86	5.0	7.0
4	沈风雷	苏州大学材料工程学院	15	82	5.0	8.0