脉冲激光沉积(PLD)原理及其应用

• 作者: 唐亚陆 杜泽民
• 来源期刊: 桂林电子工业学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: PLD系统 等离子体 准分子激光 最佳实验参数
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 分类号: TN241
• 字数: 3621字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-808X.2006.01.006

摘要

脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广,最有希望的制膜技术.通过从激光与材料相互作用理论出发,分析了激光烧蚀材料等离子体羽辉的空间运动特征与成分分布,以LCMO为对象,对PLD系统脉冲激光沉积薄膜过程中薄膜质量与衬底温度、靶材-衬底距离、氧压、激光脉冲能量、激光频率等参数关系进行了实验研究,得出在单晶衬底上沉积LCMO薄膜的最佳实验参数.同时用XRD衍射谱和SEM分别对膜的成键情况和表面形貌作了分析,结果表明脉冲激光沉积(PLD)是一种很好的镀膜方法,所制备的膜质量较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐亚陆	昆明理工大学光电子新材料研究所	4	108	2.0	4.0
5	杜泽民		2	113	2.0	2.0