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摘要:
采用脉冲磁控溅射技术制备了Er/Yb共掺ZnO薄膜,对不同退火温度下薄膜晶体结构和光致荧光(PL)光谱进行了系统分析,探讨了退火处理所导致的晶体结构变化以及反应新相的生成对Er3+离子激活、薄膜PL光谱的影响.研究结果表明,退火处理所导致的Er3+离子PL光谱的变化与薄膜的微观状态之间有着密切的联系.在室温到1050℃退火温度范围内,Er/Yb共掺ZnO薄膜为多晶结构,薄膜荧光强度的增加主要是薄膜内氧含量增加、缺陷减少使Er3+离子荧光寿命增加以及Er3+离子激活比例增加所致.当退火温度超过1050℃,荧光强度的明显降低是由新相生成造成缺陷增加以及薄膜内氧含量降低引起.在整个退火温度范围内,薄膜的PL光谱都表现为同一种光谱特性,即明锐的多峰结构,这说明Er3+在ZnO和Zn2SiO4中的周围环境非常相似.
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文献信息
篇名 晶体结构对Er/Yb共掺ZnO薄膜光致荧光特性的影响
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 物理学
关键词 晶体结构 Er/Yb共掺ZnO薄膜 光致荧光
年,卷(期) 2006,(z1) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 9-13
页数 5页 分类号 O484
字数 4855字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.z1.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张庆瑜 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 92 897 16.0 25.0
2 谭娜 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 4 22 3.0 4.0
3 段淑卿 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 3 18 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
晶体结构
Er/Yb共掺ZnO薄膜
光致荧光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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