Er/Yb/Al掺杂ZnO薄膜的结构与形貌研究

• 作者: 宋红莲 张宁玉 霍庆松 韩利新
• 来源期刊: 山东建筑大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 ZnO薄膜 掺杂 结构 形貌
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 425-428,446
• 分类号: O484.1
• 字数: 3004字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-7644.2011.05.004

摘要

采用射频磁控溅射技术在室温下Si衬底上制备了ZnO薄膜和Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜.通过对XRD的结构分析表明:未掺杂ZnO薄膜沿c取向性生长,掺杂ZnO薄膜偏离了正常生长,变为(102)取向性生长的纳米多晶结构；Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜的晶粒尺寸随着Er元素含量的增多而减小.经AFM对其形貌分析表明:Er3+、yb3+、Al3+的掺入引起了ZnO薄膜晶格场变化,使薄膜表面粗糙度变大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋红莲	山东建筑大学理学院	6	17	3.0	4.0
2	张宁玉	山东建筑大学理学院	29	156	7.0	11.0
3	韩利新	山东建筑大学理学院	2	13	2.0	2.0
4	霍庆松	山东建筑大学理学院	2	13	2.0	2.0