获得精细通孔图形的光刻技术改进

• 作者: 劉聖烈 宋泳锡 張炳鉉 李禹奉 李貞烈 柳在一
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: TFT-LCD 光刻 通孔图形 尺寸
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 447-450
• 页数: 4页
• 分类号: TN873.93|TN305.7
• 字数: 518字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.009

摘要

为了获得更高性能的TFT-LCD面板,在光刻时保证精细的图形成像十分重要,其中,如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一.本文提供的研究中,我们只简单地改变了一下烘烤工艺,而不需要改变Eop和显影时间,就可以将通孔图形的尺寸减小20 %～25 %.在后续的刻蚀工艺中,通孔的尺寸能显著减小.