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Gd(Sm)掺杂CeO2的沉淀法合成与导电性能研究
Gd(Sm)掺杂CeO2的沉淀法合成与导电性能研究
作者:
吉春艳
廖园富
徐庆
徐开群
陈文
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
无机非金属材料
CeO2基电解质
共沉淀法
离子电导率
摘要:
采用碳酸盐共沉淀法合成Ce0.8Gd0.2O1.9和Ce0.8Sm0.2O1.9粉体,并用交流阻抗谱法研究其氧离子导电性能.结果表明,在600 ℃的热处理温度下,可以合成出单一萤石结构的超微细粉体(~200 nm),在1 400 ℃烧结后其相对密度达到95 %以上.在测试温度为800 ℃时,Ce0.8Gd0.2O1.9和Ce0.8Sm0.2O1.9的氧离子电导率分别达到7.8×10-1 S·cm-1和8.5×10-1 S·cm-1.在400~800 ℃范围内,其氧离子导电活化能分别为0.80 eV和0.72 eV.
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掺杂对CeO2基电解质材料性能的影响研究进展
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沉淀法合成纳米CeO2及其性能
纳米晶材料
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沉淀法
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文献信息
篇名
Gd(Sm)掺杂CeO2的沉淀法合成与导电性能研究
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
无机非金属材料
CeO2基电解质
共沉淀法
离子电导率
年,卷(期)
2006,(9)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
22-24,42
页数
4页
分类号
TQ174
字数
2975字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-2028.2006.09.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
吉春艳
武汉理工大学材料科学与工程学院
1
4
1.0
1.0
2
徐庆
武汉理工大学材料科学与工程学院
100
1060
19.0
25.0
3
廖园富
1
4
1.0
1.0
4
陈文
武汉理工大学材料科学与工程学院
216
1824
21.0
26.0
5
徐开群
武汉理工大学材料科学与工程学院
2
7
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二级引证文献(2)
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引证文献(0)
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无机非金属材料
CeO2基电解质
共沉淀法
离子电导率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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