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摘要:
分别使用X衍射仪和紫外(190 nm~800 nm)分光光度仪,测量了用分子束外延法生长在SiC(001)基底面上的AIN薄膜的X衍射、透射谱和不同温度下的吸收谱.X衍射表明:实验所用的AIN薄膜在c-轴存在应变和应力,该应变和应力主要是由于AIN的晶格常量与基底SiC的晶格常量不匹配所致.透射谱表明:AIN薄膜的禁带宽度大约为 6.2 eV;而其对应的吸收谱在 6.2 eV处存在一个明显的台阶,此台阶被认为是AIN薄膜中的带边自由激子吸收所产生,忽略激子的结合能(与禁带宽度相比),则该值就对应为AIN的禁带宽度.而其对应的不同温度下(10 k~293 k)的吸收谱的谱线的形状和位置无明显的变化表明:温度对AIN薄膜的禁带宽度亦无明显的影响,这主要是由于在AIN薄膜中存在着应力所致.
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文献信息
篇名 氮化铝薄膜的光学性能
来源期刊 光子学报 学科 物理学
关键词 AIN薄膜 透射谱 吸收谱 禁带带宽 自由激子
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 薄膜化学
研究方向 页码范围 221-223
页数 3页 分类号 O472
字数 1698字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈光德 西安交通大学理学院应用物理系 65 517 13.0 18.0
2 邱复生 西安交通大学理学院应用物理系 13 85 6.0 9.0
3 颜国君 西安交通大学理学院应用物理系 6 58 5.0 6.0
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AIN薄膜
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自由激子
研究起点
研究来源
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研究去脉
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期刊影响力
光子学报
月刊
1004-4213
61-1235/O4
大16开
西安市长安区新型工业园信息大道17号47分箱
52-105
1972
chi
出版文献量(篇)
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70454
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